系所介紹
科研設備
熱場發射掃描式電子顯微鏡
一般光學顯微鏡以可見光為介質，其放大倍率最高約為一千五百倍；電子顯微鏡則是利用高能量射出波長較短的電子波，將電子束照射掃描樣本觀察其表面型態，大大提高放大倍率。本設備之放大倍率可達到六十五萬倍，為高解析度場發射掃描式電子顯微鏡，電子槍為熱發射schottky形式，具有高解析度及高擴充性之電子顯微鏡。其解析度高達1.2nm（30kV）、3.0nm（1kV），可直接觀察樣本於高倍率下二次電子影像（SEI）之表面型態觀察。本顯微鏡同時配置有反射電子偵測器（Semiconductor Backcattered Electron Dectector）可提供分析樣本之成分（composition）與表面高程(Topography)影像。另外並有微區元素能量分析儀（X-ray Energy Dispersive Spectrometer，EDS），可對樣本作進一步之微區元素成分定性及半定量分析工作。
儀器規格
型號
JSM7000F
試片載台
X-Y：70x50mm
放大倍率
X10~650000
WD
3~41mm
加速電壓
0.5~30kV
Rotation
360°
探測電流
10^-12A~2x10^-7A
Tilting
-5~70°
SEM主體、BE偵測器、EDS與操控電腦
有孔蟲放大倍率180
有孔蟲放大倍率1000
有孔蟲放大倍率20000
有孔蟲放大倍率100
有孔蟲放大倍率5000
有孔蟲放大倍率50000
EDS單點分析
將SEM觀察，選擇欲分析之位置，利用EDS進行成分分析
X-ray mapping
於sem選擇欲分析之位置，利用EDS進行選擇區域之成分分析，該方法將蒐集分析範圍內之所有元素，以分佈圖的方式呈現各元素的相對濃度