儀器及規格簡介

X光螢光分析儀（X-ray Fluorescence，簡稱 XRF），藉由X光管產生一級X光，通過濾光片除去雜質射線後，照射至樣品表面，激發樣品中所有特性譜線元素，釋放二級X光（即X光螢光）。依靈敏度或解析度之選擇，設定通過準直器及分光晶體之條件，最後進入偵檢器（計數器）中。X光光子能量轉換成電壓脈波輸出，透過 PHA（Pulse Height Analysis）決定脈波高度上下限，確保待測元素訊號強度之完整性，再經由標準品所建立之檢量線，計算樣品中元素成分及濃度，達到定量分析目的。本儀器具有分析元素濃度範圍廣（ppm~100%）、快速分析及非破壞性分析之優點。 儀器樣品分析規格特點：可分析Be到U之間的元素；含量範圍從亞ppm到100%；精度0.05%（相對）；樣品類型：粉末、固體、液體、氣體、鍍層、泥漿、膜、濾膜沉積物等等；樣品尺寸，鬆散粉末和液體最多50ml。

儀器原理

1. X射線光管發射的原級X射線入射至樣品，激發樣品中各元素的特徵譜線
2. 分光晶體將不同波長的X射線分開
3. 計數器記錄經分光的特定波長的X射線光子N
4. 根據特定波長X射線光子、N的強度，計算出與該波長對應的元素的濃度

樣本製備方法、標準樣測試結果